湿膜的特点及其应用控制要点

  
  一、 湿膜的特点
  1. 附着力、覆盖性好
  湿膜本身是由感光性树脂合成,添加了感光剂、色料、填料及溶剂的一种蓝色粘稠状液体。基材上的凹坑、划伤部分与湿膜的接触良好,且湿膜主要是通过化学键的作用与基材来粘合的,从而湿膜与基材铜箔间有优良好的附着力,使用丝网印刷能得到很好的覆盖性,这为高密度的精细线条PCB的加工提供条件。
  2.优良的分辨率
  湿膜与基材的接触性、覆盖性好,又采用底片接触式曝光,缩短了光程,减少了光的能损失、光散射引起的误差。这使湿膜的分辨率的一般在25μm以下,提高了图形制作的精密度,而实际生产中干膜的分辨率很难达到50μm。
  3.成本低廉
  湿膜的厚度可控,一般来说比干膜较薄,包装费用也低,相对来讲湿膜成本要低点。湿膜在精细线条的内层制作过程中合格率大大提高,同干膜相比节约20%的材料成本。显影湿的速度要快30%,蚀刻速度也可提高10?20%,褪膜的速度也可增加,从而节约了能源、提高设备的利用率,最终成本降低了。
  4.消除板边发毛
  贴干膜板边易发毛、易产生膜碎,在生产过程中会影响板子的合格率,印湿膜的板子边缘没有膜碎和发毛现象。
  二、 湿膜应用时的操作要点
  1.刷板
  对前工序提供的材料(即生产板)要求板面无严重的的氧化、油污、折皱。我们采用酸洗(5%硫酸)喷淋,除去有机杂质和无机污物,然后使用500目的尼龙刷辊磨刷。刷板后要达到:铜表面无氧化、铜表面被均匀粗化、铜表面具有严格的平整性,还要铜表面无水迹。这种效果增强了湿膜与铜箔表面的结合力,以满足后续工序工艺的要求。刷板后的铜箔表面状态直接影响PCB的成品率。
  2.丝网印刷
  为达到需要厚度的湿膜,丝印前要选丝网,要注意丝网的厚度、目数(即单位长度上的线数)。膜厚同丝网的透墨量有关,油墨的理论透墨量(Uth)为:
  Uth=Dw2 \(w+d)2 ×1000
  ( D ─ 网沙厚度 d ─ 线径 w ─ 开口宽)
  实际透墨量还与湿膜粘度、刮胶压力、刮胶移动速度有关,为达到均匀覆盖,刮刀口要轫磨好。印后板面膜厚度要控制在15-25μm之间,膜过厚容易产生曝光不足、显影不好,预烘难控制,易造成战地片,操作困难。膜过薄易产生曝光过度,耐蚀性好,电镀时的绝缘性差,去膜也困难。制造0.15μm以下的精细线条,膜后应小于20μm.
  湿膜在用前要调好粘度,并充分搅拌均匀,静止十五分钟,丝印房间的环境要保持洁净,以免外来杂物落在面上影响板子的合格率,温度要控制在20℃左右,相对湿度要在50%上下。
  3.预烘
  预烘参数使用第一面在80-100℃烘7-10分钟,第二面也在80-100℃烘10-20分钟。预烘主要是蒸发油墨中的溶剂,预烘关系到湿膜应用的成败。预烘不足,在贮存、搬运过程中易粘板,曝光时易粘底片,最终造成断线或短路;预烘过度,易显影不净,线条边缘由锯齿状。预烘直接影响到PCB的质量,所以在平时的操作重要经常测试湿膜厚度,并根据环境温度的变化调节烘箱的参数,经常检查烘箱的鼓风和循环系统是否良好。烘干后的板子要尽快曝光,最好不要超过12小时。
  4.曝光
  曝光是在紫外线的作用下,湿膜中的单体分子在吸收光能量后产生的光聚合反应过程。选用功率大的曝光机,以减少曝光时间和热量的累积,保证曝光图形的稳定性和减少粘底片。每班要保持曝光间洁净,以免杂物附着在版面造成沙眼、缺口、断线,做曝光尺来调整曝光时间,避免造成曝光量过大或曝光量不足,最后曝光级数要控制在6-8级之间。曝光时同一种印制单板尽量在同一位置曝光,尽量保证同一种板子棘手的能量相同。曝光量过大,抗蚀刻、抗电镀的效果较好,但存在去膜效果不理想及图形线路缩小(使用正片)或扩大(使用负片),曝光不足,造成显影不良,耐蚀性差,线条边缘发毛,线间距增大或减小,在蚀刻时易造成短路或断线。
  5.显影
  显影是将没有曝光的湿膜层部分除去得到所需电路图形的过程。严格控制显影液的浓度(10-12g/l)、温度(30-34℃),显影液浓度太高或太低都易造成显影不净。优化显影速度使其与曝光量匹配,经常清洗喷嘴,让喷嘴的压力及分布一致。显影时间过长或显影温度过高,会对湿膜表面造成劣化,在电镀或酸性蚀刻时出现严重的渗度或侧蚀,降低了图形制作的精度要求。
  6.蚀刻和去膜
  蚀刻最终得到我们需要的电路图形,蚀刻液可以选用碱性三氯化铁、酸性氯化铜和氨水。蚀刻时不同铜箔厚度要使用不同的蚀刻速度,蚀刻速度还要与蚀刻液的温度、浓度匹配,经常维护蚀刻机的喷嘴,保持压力和喷液分布均匀,不然最后造成蚀可不均和边缘起铜丝,影响PCB的品质。去膜我公司采用4-7%的氢氧化钠溶液在50-60℃进行,主要是氢氧化钠使膜层膨胀再细分的过程,控制好参数孔内的湿膜也能褪掉。我们在特殊的双面板使用湿膜做图形转移达到了很好的效果。
 

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